hardware
EVACTRON
Plasmacleaner

Spezifikationen
- Radikale Sauerstoff Quelle (PSR v)
- Computergesteuerter, automatischer, elektronische Steuereinheit
für Druck und HF Leistung (max. 20 Watt) - CE Zertifiziert
Anwendungsbeispiel



Vor der Reinigung
Während der Reinigung (Dauer 3min)
Nach der Reinigung
Sputteranlagen

Spezifikationen
- AU-Target
- Schichtdicke einstellbar von 1 bis 50mm
- Stromstärke einstellbar von 5 bis 15mA
- Probenkammer ø 105mm
- Leistung ohne Pumpe 120W
- Spannungsversorgung 230V, 50/50Hz
Umlaufkühler – Kühlmobil

Spezifikationen
- Kälteleistung 1.200 Watt bei +20°C
- Arbeitsbereich 0°C bis +40°C
- Umwälzpumpe Förderdruck max. 2,6bar
- Mit LED Display
- Optimiert für REM und TEM, andere Konfigurationen möglich
SDD-Detektoren

Spezifikationen SDD-Detektoren
- Basierend auf der Silicon Drift Detector Technologie
- Stickstofffreier energiedispersiver Röntgendetektor mit
kompakten Abmessungen - Kein Stickstoff notwendig
- Exzellente Auflösung < 127eV bis < 138eV
- Kristallfläche 100mm² und 30mm²
- Aktive Kristalldicke 450µm
- Verarbeitung von extrem hohe Zählrate > 100.00
zusammen mit dem digitalen Pulsprozessor NumeriX - Analyse ab Bor
- Fenstertyp Si3N4 Keramik Fenster oder AP3.3
- Ideal für schnelle Verteilungsbilder
- Nachrüstung an alle gängigen EDX Systeme (z. B. Oxford, Bruker,
EDAX, Noran …) möglich

Spezifikationen Si(Li)-Detektor
- Auflösung < 129eV, Mn, 1000cps
- Dünnschichtfenster AP3.3
- Kristallfläche 10mm² oder 30mm²
Scrollpumpe

Spezifikationen
- Für Anwendungen im Grob- und Feinvakuumbereich geeignet
- Vollständig ölfrei und trockenlaufend
- Erstklassige Saugleistung
- Geringe Geräuschentwicklung
Drehschieberpumpe

Spezifikationen
- Für Anwendungen im Grob- und Feinvakuumbereich geeignet
- Ausgelegt für Dauerbetrieb
- Geringer Energieverbrauch
- Konzipiert als Tisch- oder Standgerät
EVACTRON
ZEPHYR CLEANING

Spezifikationen
- Ausführung für SEM/FIB Systeme
- Schnelle und effiziente Kohlenwasserstoffentfernung
- Keine Beschädigungen der Proben oder empfindlichen Komponenten
- Bedienung bei rauem und turbomolekularem Druck
- Ferngesteuerte Computerschnittstelle
- Mit Desktop Contoller
- SEM/FIB-Kammern oder Schleusen
- 2 Betriebsarten mit klassischem Modul (Schruppdrücke) oder
T-Pumpen-Betrieb (turbomolekulare Drücke)
E50 Plasma DE-Contaminator

Spezifikationen
- Ferngesteuerte Hohlkathodenplasma-Radikalquelle
- Desktop-Controller mit Druckknopfbedienung
- Android-Tablet mit Bluetooth-Kommunikation
- Bibliothek mit getesteten Rezepten und Optionen zur
Änderung von Leistung, Zyklen, Reinigungsdauer usw. - RF Leistung 35 – 75 Watt bei 13,56 MHz RFHC
- 100-240 VAC 50/60 Hz Eingang
E50 E-TC Plasma DE-Contaminator

Spezifikationen
- Ferngesteuerte Hohlkathodenplasma-Radikalquelle
- Desktop-Controller mit Druckknopfbedienung
- Kommunikation über ein kabelgebundenes Touchpad
- Speicher mit getesteten Rezepten und Optionen zur
Änderung von Leistung, Zyklen, Reinigungsdauer usw. - RF-Leistung 35 – 75 Watt bei 13,56 MHz RFHC
- 100-240 VAC 50/60 Hz Eingang
E50 OEM Plasma DE-Contaminator

Spezifikationen
- SEM/FIB Host gesteuerte Steuerung
- 2U Rackmount-Controller für die Systemintegration
- Hardware-Verriegelung
- Leistungsstarke kompakte Plasma-Radikalquelle (PRS)
- RF-Leistung 35-75 Watt bei 13,56 MHz RFHC
- 100-240VAC Hz Eingang
U50 UHV Vakuum Cleaning System

Spezifikationen
- RF-Leistung: 75 W Spitzenleistung, bis zu 50 W Dauerleistung
- Doppelt wirkende Reinigung durch Plasma und UV-Nachleuchten
- Energieeffizientes Hochfrequenz-Hohlkathodenplasma (RFHC)
- Conflat 2,75-Flansch für UHV-Kompatibilität
- Programmierbare Leistung, Reinigungszeit, Anzahl der Zyklen,
Rezepte - Verbundenes Touchpad-Kommunikationsmodul
- Druckbetrieb über einen weiten Bereich: 0,3 Pa/ 2 mTorr bis 80
Pa/600 mTorr - Ausheizbar bis 150⁰C
- TMP-kompatibel
- Keine Vorentlüftung erforderlich
- Schnelle Reinigung
- Keine Beschädigung empfindlicher Komponenten – keine SputterÄtzung
- Lecktest auf <10-11 Torr oder 10-11 mBar (1,3E-9 Pa)
- Reinigung auf Knopfdruck
- Keine Streichhölzer oder Gasflusseinstellungen für die
Plasmazündung erforderlich